一种透明导电薄膜结构及其制作方法

一种透明导电薄膜结构及其制作方法，所述透明导电薄膜结构具有基板和金属网格；包括如下步骤：提供由玻璃或石英制成的基板；在所述基板的至少1个表面镀金属氧化物层；在所述金属氧化物层的表面制作光刻胶层，然后对光刻胶层进行刻蚀处理，使得光刻胶层内形成与所述金属网格匹配的凹槽；以所述金属氧化物层为阴极，镀层金属为阳极，电镀，在金属氧化物层的表面形成金属网格；然后，去除剩余的光刻胶层，获得透明导电薄膜结构成品。本发明的工艺简单，无需金属纳米粒子等电镀阴极材料，适合工业化生产，可以基于金属氧化物和金属网格得到更加优化的透明导电薄膜结构。

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