核心提示：001 含固体催化剂的CMP淤浆002 制造存储器硬盘用的抛光组合物和抛光方法003 用于低介电常数材料的氧化抛光淤浆004 抛光组合物和抛光方法005 抛光浆料006 用于研磨的无机氧化物颗粒淤浆及...
001 含固体催化剂的CMP淤浆002 制造存储器硬盘用的抛光组合物和抛光方法
003 用于低介电常数材料的氧化抛光淤浆
004 抛光组合物和抛光方法
005 抛光浆料
006 用于研磨的无机氧化物颗粒淤浆及调节所述颗粒的磨蚀性的方法
007 抛光组合物及使用它的抛光方法
008 硬质表面处理剂、防污处理剂及表面处理方法
009 抛光剂组合物
010 抛光剂组合物
011 抛光剂组合物
012 在二氧化硅化学机械抛光过程中减少/消除划痕和缺陷的组合物和方法
013 一种家具护理剂及其制造
014 金属擦亮剂
015 用于金属和电介质结构化学机械抛光的抛光膏
016 抛光存储器硬盘用基片的抛光组合物及抛光方法
017 含有高分子树脂的喷雾型汽车清洁光亮软蜡组合物
018 化学机械法抛光二氧化硅薄膜用抛光膏
019 用于SiO2隔离层化学－机械抛光的酸性抛光膏
020 含氢氟酸的铝型材酸性抛光剂
021 抛光组合物及使用它的抛光方法
022 含硅烷改性研磨颗粒的化学机械抛光(CMP)组合物
023 抛光系统及其使用方法
024 化学机械抛光系统及其使用方法
025 含有阻化化合物的抛光系统及其使用方法
026 用于存储器硬盘磁头表面抛光的抛光组合物及其抛光方法
027 含有机添加剂的钽障壁浆液
028 介电质CMP浆液中CsOH的应用
029 抛光组合物
030 不用磨料泥浆的玻璃抛光材料及其使用方法
031 木质地板、家具护理剂及其制备方法
032 平整表面的组合物及方法
033 一种用于存储器硬盘的磁盘基片抛光浆料
034 抛光剂和生产平面层的方法
035 一种纤维砂轮磨削液及其用途
036 用含氨基酸的组合物研磨内存或硬盘的方法
037 用于优先除去氧化硅的系统
038 磁盘基材的抛光组合物和使用该组合物的抛光方法
039 丙烯海松酸二缩水甘油酯及其环氧树脂和它们的制法
040 超大规模集成电路多层铜布线化学机械全局平面化抛光液
041 抛光组合物及使用它的抛光方法
042 平整表面的组合物及方法
043 抛光组合物
044 金属和金属/电介质结构的化学机械抛光用组合物
045 用于金属的化学机械抛光浆液及利用该浆液制备半导体装置的金属线接
触插头的方...
046 金属CMP用的抛光组合物
047 研磨无机氧化物颗粒的浆液以及含铜表面的抛光方法
048 化学机械抛光浆料和使用该浆料的化学机械抛光方法
049 用于CMP的含硅烷的抛光组合物
050 铜化学－机械抛光工艺用抛光液
051 一种墙面抛光防污蜡的制作方法
052 使皮革产生柔韧性能和自然光泽的液体鞋油
053 失效稀土抛光粉的再生方法
054 氧化铈淤浆和制造基材的方法
055 超大规模集成电路多层铜布线中铜与钽的化学机械全局平面化抛光液
056 化学/机械抛光浆和使用它的化学机械抛光方法
057 化学抛光液
058 稀土抛光粉的制备方法
059 用于化学机械抛光的淤浆
060 硅藻土磨料抛光剂的制备方法
061 抛光组合物中有机硅表面活性剂的使用
062 用于化学机械抛光的水分散体及用途
063 无水洁车蜡液
064 皮鞋翻新保养液
065 用于抛光铜基金属的浆
066 抛光组合物
067 一种不锈钢制品的化学抛光剂及其工艺
068 化学机械抛光组合物及其相关方法
069 抛光组合物的用途和抛光存储器硬盘的方法
070 表面处理组合物及其用途
071 抛光液组合物
072 一种石材镜面效果抛光膏的制作方法
073 含固体催化剂的化学机械抛光的抛光垫
074 用于金属的化学机械抛光（CMP）的浆料及其使用
075 CMP用料浆以及制造半导体器件的方法
076 木质油精地板、家俱上光保护剂及其制造工艺
077 抛光组合物
078 一种多用途汽车清洗覆膜高光保养剂
079 添加剂组合物、含有该添加剂组合物的淤浆组合物及使用该淤浆组合物
抛光物体的...
080 涂饰面的双液性保护上光剂
081 一种石材上光蜡及其生产方法
082 抛光组合物
083 硅石基淤浆
084 抛光组合物
085 抛光组合物
086 稀土盐/氧化剂为基础的化学机械抛光方法
087 一种水基纳米金刚石抛光液及其制造方法
088 抛光组合物
089 一种无水洗车亮洁剂及其制备方法
090 微混晶防护蜡及其制备方法和用途
091 真皮护理霜
092 自动餐具清洗机用光亮剂
093 抛光组合物
094 含硼抛光系统及方法
095 家具上光剂组合物
096 降低半导体晶片磨蚀的化学机械磨平组合物
097 多功能去污亮光乳液
098 用于汽车外壳去污上光的组合物及其制备方法
099 对包含金属的表面采用卤素和卤化物盐类的平面化方法
100 用于半导体晶片的抛光组合物
101 用于抛光半导体层的组合物
102 含碱金属的抛光系统及方法
103 抛光组合物
104 抛光垫
105 阻挡层抛光流体
106 硫系化合物相变材料化学机械抛光的纳米抛光液及其应用
107 用于CMP的浆料、抛光方法及半导体器件的制造方法
108 高速阻挡层抛光组合物
109 抛光组合物
110 用于金属化学机械抛光的新型浆料
111 利用含胺聚合物的CMP系统和方法
112 一种化学机械抛光液
113 一种汽车干洗上光液及其制造方法
114 钨抛光溶液
115 抛光组合物和抛光方法
116 CMP浆料、抛光方法和半导体器件的制造方法
117 一种核壳结构的水性磨光油
118 硫系相变材料化学机械抛光的无磨料抛光液及其应用
119 金属基板化学机械抛光方法
120 用于化学机械抛光氧化硅和氮化硅的组合物和方法
121 抛光组合物和抛光方法
122 浆料成分及利用其的CMP方法
123 用于镍/磷合金的CMP配方
124 用于铜的受控抛光的组合物和方法
125 研磨基材的方法及组合物
126 附着在固体上并用于增强CMP配方的形成自由基的活化剂
127 含甲醇的二氧化硅基CMP组合物
128 用于抛光铜的组合物和方法
129 亲水化蜡组合物
130 用于CMP的经正电性聚电解质处理的阴离子性研磨颗粒
131 抛光组合物和抛光方法
132 一种用于存储器硬盘磁头超精研磨的研磨油
133 低K介电材料的化学机械抛光方法
134 抛光组合物和抛光方法
135 含导电聚合物的抛光组合物
136 木质地板、家具护理用的抛光剂组合物
137 地板用水合树脂分散体以及使用这种水合树脂分散体的地板抛光组合物
138 减少在化学机械法平面化过程中的表面凹陷和磨蚀的方法
139 用于钨和钛的化学机械平坦化的组合物及方法
140 纳米鞋油
141 皮革、石材增光保护剂
142 用于替换介质内容物的装置和方法
143 易擦亮皮革护理膜片
