核心提示:一种防爆膜基材生产工艺,包括混合、涂布和烘烤步骤,该防爆膜基材生产工艺利用改性聚碳聚氨酯聚合物通过一系列的改良涂布工艺可以根据不同的客户的需求,制备不同的厚度的光学级的防爆膜基材,其厚度的可控制在20...
一种防爆膜基材生产工艺,包括混合、涂布和烘烤步骤,该防爆膜基材生产工艺利用改性聚碳聚氨酯聚合物通过一系列的改良涂布工艺可以根据不同的客户的需求,制备不同的厚度的光学级的防爆膜基材,其厚度的可控制在20微米至200微米之间,在满足光学的要求下,同时也满足在基材的表面作硅胶,亚克力胶的涂布处理,以及在后加工的工艺上同样满足印刷、电镀、UV转印以及热弯且不影响基材的贴合起翘的性能,在3D热弯高拉伸工艺上有突出的优势。