并联的电容结构及其制作方法

一种并联的电容结构及其制作方法，其中该并联的电容结构包含一基底，一沟槽埋入于基底中，多个电极层各自顺应沟槽的轮廓填入并覆盖沟槽，多个电极层由多个第n个电极层组成，其中n为依序由1至M的正整数，M不小于3，并且数字较小的第n个电极层较靠近沟槽的侧壁，沟槽的正中心由第M个电极层填入并且第M个电极层的上表面和基底的上表面切齐，一电容介电层设置于相邻的电极层之间，一第一导电插塞接触n为奇数的第n个电极层，一第二导电插塞接触n为偶数的第n个电极层。

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