一种金属支架抛光设备及工艺

一种金属支架抛光设备及工艺，其中，包括：电控系统；电解槽，其内有抛光液；抛光机构，用以夹持金属支架于所述电解槽内进行电解抛光处理，其中，所述电控系统用以控制所述抛光处理中的电解抛光参数，所述电解抛光参数包括，抛光液温度，金属支架电解抛光的电压和电流大小，以及电解抛光工作模式。其技术方案的有益效果在于，金属支架可直接进行电解抛光，不需机械抛光，省时、抛光效率高；通过电控系统与电解槽及抛光机构之间的配合，可以使抛光后支架尺寸均匀、表面光亮、可达到镜面效果；提供多种夹持工装、抛光方式，可根据不同支架结构合理选择抛光工艺。

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