阵列基板的制作方法及阵列基板

一种阵列基板的制作方法及阵列基板，制作方法包括：在衬底基板上沉积栅金属层，通过第一次光刻，使栅金属层形成栅极和扫描线；依次沉积栅极绝缘层、半导体层和源漏金属层，通过第二次光刻，使半导体层形成有源岛，同时源漏金属层形成源极、漏极和数据线，源极和漏极之间形成沟道区域；通过悬涂工艺涂覆彩色滤光片色阻层，并进行曝光显影工艺；沉积保护层，通过第三次光刻，在漏极上方的保护层和彩色滤光片色阻层上形成导电过孔；沉积透明导电层，通过第四次光刻，使透明导电层形成像素电极并使像素电极与漏极通过导电过孔连通。本发明提供的阵列基板的制作方法和阵列基板，可防止氧化硅保护层对金属铜造成氧化。

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