核心提示:一种非成像型激光匀质系统及匀质元件的制作方法,该激光匀质系统包括激光器、以及依次设置的小孔、扩束系统、匀质元件、匀质凸透镜、以及屏幕。匀质元件包括金属铱薄膜、以及制备于金属铱薄膜上的微透镜阵列,微透镜...
一种非成像型激光匀质系统及匀质元件的制作方法,该激光匀质系统包括激光器、以及依次设置的小孔、扩束系统、匀质元件、匀质凸透镜、以及屏幕。匀质元件包括金属铱薄膜、以及制备于金属铱薄膜上的微透镜阵列,微透镜阵列采用金刚石衬底材料,金刚石衬底材料和金属铱薄膜通过共价键键合。该方法包括步骤:制备金属铱薄膜;在金属铱薄膜上直接生长单晶金刚石;将单晶金刚石样品研磨抛光;在单晶金刚石样品上制备微透镜阵列;本申请解决了现有技术中反射膜和衬底材料结合力较低,而导致激光匀质系统的损伤阈值低的问题。本发明的激光匀质系统对入射光的轮廓、相位等参数要求低,其结构简单,易操作,损伤阈值高。