一种可精确控制去除量的液体抛光机及抛光工艺

一种可精确控制去除量的液体抛光机及抛光工艺，涉及工件抛光技术领域，包括抛光箱，还包括粗糙度仪和两个喷头，所述抛光箱的内壁固定连接有过滤网，所述抛光箱侧面设置有控制箱，所述抛光箱的底面固定连接有存液箱，所述抛光箱的顶面开设有入料口，所述抛光箱内设置有用于对工件进行固定的固定部件，还包括分别带动两个所述喷头进行位移，从而提升对工件的抛光更加全面的位移部件，本发明通过上述结构之间的相互配合，具备了对工件机械能全面均匀的冲刷抛光，抛光效果好，可对工件的抛光去除量进行控制的效果，解决了传统装置对工件的去除量无法控制，往往需要在抛光时人工调整工件的空间位置，浪费时间的问题。

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