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半导体腔室及半导体工艺设备

时间：2021/9/30 10:09:02 点击：

　　核心提示：一种半导体腔室及半导体工艺设备，所述半导体腔室包括内衬件(200)，所述内衬件(200)界定溅射空间(201)，所述内衬件(200)开设有第一通孔(202)，所述溅射空间(201)与所述第一通孔(20...

一种半导体腔室及半导体工艺设备，所述半导体腔室包括内衬件(200)，所述内衬件(200)界定溅射空间(201)，所述内衬件(200)开设有第一通孔(202)，所述溅射空间(201)与所述第一通孔(202)相连通，其特征在于，所述半导体腔室还包括：遮挡件(300)，所述遮挡件(300)环绕设置于所述内衬件(200)之外，且遮盖所述第一通孔(202)，所述遮挡件(300)与所述内衬件(200)围成装配间隙(510)，所述装配间隙(510)与所述半导体腔室内除所述溅射空间(201)之外的容纳空间通过所述装配间隙(510)连通。上述方案能够解决半导体腔室的洁净度较差的问题。

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