核心提示：1 清洗剂和有害气体的清洗方法（日本-18页）2 新型清洗剂以及使用它的清洗方法（日本-20页）3 清洗剂组合物（日本-15页）4 半导体装置用清洗剂和半导体装置的制造方法（日本-22页）5 液体清洗...
1 清洗剂和有害气体的清洗方法（日本-18页） 2 新型清洗剂以及使用它的清洗方法（日本-20页）
3 清洗剂组合物（日本-15页）
4 半导体装置用清洗剂和半导体装置的制造方法（日本-22页）
5 液体清洗剂或洗涤剂组合物（荷兰-15页）
6 杀菌剂和含有该杀菌剂的清洗剂（日本-23页）
7 粒状洗涤剂或清洗剂的制备方法（德国-38页）
8 具有改良溶解性的洗涤和清洗剂型制体（德国-22页）
9 具有改良溶解性的洗涤剂和清洗剂型制体（德国-23页）
10 低泡沫清洗剂（德国-12页）
11 含有植物和藻类提取物的化妆用清洗剂和护肤制品（德国-9页）
12 起泡的人体清洗剂（德国-8页）
13 硬表面清洗剂（英国-9页）
14 粒状洗涤剂或清洗剂的制备方法（德国-39页）
15 用于工业洗碗机的块状清洗剂（德国-13页）
16 阴离子双连表面活性剂在洗涤剂、清洗剂和护肤剂配方中的应用（德国-20页）
17 用于在制造半导体过程中清洗光刻胶的清洗剂制品（韩国-18页）
18 低成条纹和低成膜的硬表面清洗剂（美国-16页）
19 用作清洗剂的糠醇混合物（美国-13页）
20 低腐蚀性清洗剂组合物（日本-13页）
21 含有污渍清除聚合物的清洗剂组合物（荷兰-33页）
22 包含聚合菱形网状浴用海绵和含除臭剂组合物的液体清洗剂的个人清洗物系（荷兰-26页）
23 液体清洗剂组合物（荷兰-30页）
24 水基液体清洗剂组合物（日本-24页）
25 稀释时能增加粘度的浓缩清洗剂组合物（美国-38页）
26 用液态二氧化碳作清洗剂的搅动下的干洗（美国-20页）
27 减少残留物的硬表面清洗剂（美国-39页）
28 减少成雾的炉用清洗剂（美国-28页）
29 清洗剂、清洗方法和清洗装置（日本-53页）
30 含有低泡沫的多羟基脂肪酸酰胺非离子／阴离子表面活性剂混合物的清洗剂（美国-42页）
31 湿润剂、洗涤剂和（或）清洗剂中有用物质的简便纯化方法（德国-34页）
32 适合作为去污剂洗涤剂和／或清洗剂的有效物质或其混合物的干燥方法（德国-26页）
33 适合作为去污剂洗涤剂和／或清洗剂的颗粒的制造方法（德国-33页）
34 用作清洗剂的糠醇混合物（美国-17页）
35 铝的碱性清洗剂（美国-25页）
推广期间全套专利技术资料令需3800元
