核心提示：001 曝光设备002 具有多个抑制丝网的光刻投影装置003 具有多孔过滤插入物和加高粘贴表面的胶片框架的方法和设备004 用于形成共轭聚合物图案的组合物和使用该组合物形成共轭聚合物图案的方法005 ...
001 曝光设备002 具有多个抑制丝网的光刻投影装置
003 具有多孔过滤插入物和加高粘贴表面的胶片框架的方法和设备
004 用于形成共轭聚合物图案的组合物和使用该组合物形成共轭聚合物图案的方法
005 光刻设备和器件制造方法
006 确定光刻投影参数的方法、器件制造方法及器件
007 用于光刻系统的对准系统和方法
008 交错式相位位移掩膜
009 器件制造方法及其制出的器件
010 辐射线敏感树脂组合物
011 感放射线性树脂组成物
012 光刻装置、器件的制造方法和由此制得的器件
013 固体摄像元件和固体摄像元件的制造方法
014 光刻设备及制造器件的方法
015 曝光装置
016 光刻装置和器件制造方法
017 光刻装置和器件制造方法
018 检测掩模缺陷的方法，计算机程序和基准衬底
019 光刻装置和器件制造方法
020 用于叠层膜的组合式湿蚀刻方法及系统
021 显影方法及显影装置
022 光致抗蚀剂蚀刻中前边界点技术
023 光刻法用洗涤液和基板的处理方法
024 抗蚀剂材料和微加工方法
025 辐射敏感的树脂组合物
026 用于制造多层的衰减相移光掩模坯件的离子束淀积工艺
027 树脂组合物、树脂组合物制备方法及树脂膜的形成方法
028 均匀涂布基片的方法
029 均匀涂布基片的方法
030 双层层叠物及使用它的构图方法
031 短波成像用溶剂和光刻胶组合物
032 正型辐射敏感性组合物以及图形的形成方法
033 抗蚀剂剥离剂组合物
034 抗蚀剂剥离剂组合物
035 形成光刻用防反射膜的组合物
036 生产含有碳酸酯的酸敏液体组合物的方法
037 采用一维触发面的刻蚀技术以及在存储介质上产生数字全息图的方法
038 含有非线性光学材料层的光刻用掩膜
039 化学放大抗蚀组合物
040 感光性膏状物、等离子体显示器及其制造方法
041 光刻胶脱膜组成物及使用该组成物的模型形成方法
042 用于光阻剂的外涂层组合物及使用该组合物形成光阻剂图案的方法
043 光敏平版印刷版的自动处理方法及其自动处理装置
044 热敏平版印刷版前体
045 红外线敏感的平版印刷版
046 放射线敏感性组合物、黑色矩阵、颜色滤光片以及彩色液晶显示装置
047 利用酸的垂直转移进行平版印刷成像的方法
048 非重氮萘醌型阳图PS版感光组合物及阳图热敏CTP版成像组合物
049 利用氟化氩曝光光源制造半导体器件的方法
050 掩模盒和传送盒内的光刻掩模以及扫描盒内的掩模的方法
051 改进的光引发剂
052 改进的光致抗蚀剂
053 液晶显示器件的图形及其形成方法
054 用于连续横向固化的掩模和采用它的结晶方法
055 具有残余物抑制装置的光刻装置和器件制造方法
056 光刻装置、器件制造方法和由此制造得到器件
057 一种光刻投影装置
058 阳离子光聚合引发剂和可阳离子光聚合的组合物
059 光刻装置及设备制造方法
060 光刻装置、器件制造方法及其由此而制造的器件
061 光刻装置和器件制造方法
062 光刻装置、器件的制造方法及由此制得的器件
063 具有对准子系统的光刻装置，使用对准的器件制造方法以及对准结构
064 通过照明源优化提供透镜像差补偿的方法和设备
065 光刻装置和器件制造方法以及衬底固定器
066 器件制造方法
067 具有可扩展薄片的杂质屏蔽
068 微晶芯片像素位移方法
069 分划板焦点测量系统和使用多重干涉测量光束的方法
070 用于制造衰减相移光掩模坯的离子束沉积方法
071 金属镶嵌极端远紫外线光刻术用交替型相移光掩膜及制造方法
072 相移光刻掩模的曝光控制
073 半导体封装件及其制造方法
074 光刻模板
075 厚膜型光致抗蚀剂及其使用方法
076 光掩模、电子器件的制造方法及光掩模的制造方法
077 LCD制造用正型光致抗蚀剂组合物以及抗蚀图形的形成方法
078 光敏平版印刷版
079 多重反应模式的混合负型光阻剂及形成光阻图案的方法
080 投影曝光装置
081 投影曝光用掩模、投影曝光装置、及投影曝光方法
082 光刻掩模、光刻掩模的制造方法以及光刻掩模的制造装置
083 可抵减透镜像差影响的微影方法
084 光罩保护膜的卸除装置
085 在双级打印机上模拟2位每像素打印的方法和装置
086 抗蚀剂组合物
087 光敏性树脂组合物
088 曝光装置
089 检测组件和具有这种检测组件的光刻投影装置
090 用于光刻装置的水平传感器
091 全氟聚醚液体薄膜和使用全氟聚醚液体清洁掩模的方法
092 制作一金属图案的方法
093 对光敏平版印刷版用自动显影装置补充显影剂的方法
094 用于光致抗蚀剂的剥离组合物
095 光致抗蚀剂脱除剂
096 电子照相感光体及其制造方法、处理盒、及电子照相装置
097 曝光装置及其用以制作彩色滤光片的方法
098 电子器件的制造
099 图案模拟方法及其程序和存储其程序的媒体及其装置
100 光刻装置和检测物体的正确夹紧的方法
101 用于倾斜灵敏度降低的晶片对准的设备和方法
102 制备材料芯片的k分分形掩膜方法
103 光掩模坯体，光掩模，制造光掩模坯体的方法和设备
104 应用于接触窗制程的光罩及其接触窗制程
105 掩模图形产生方法及掩模图形产生装置
106 光致成像波导组合物以及由此构成的波导
107 用于EUV波阵面传感器的棋盘式设置中的透射切变光栅
108 图案形成方法
109 复合波激光光源及曝光装置
110 一种蚀刻方法
111 相移光刻掩模的设计和布局
112 图案形成材料和图案形成方法
113 用于深紫外光刻术的光刻胶组合物
114 制造液晶显示器的曝光掩模及利用该掩模制造液晶显示器时曝光基板的方法
115 衬底处理和光刻胶曝光方法
116 用于制造二元光掩模坯料的离子束沉积方法
117 光刻胶组合物、层压材料、图案形成方法和制造半导体器件的方法
118 抗蚀剂剥离剂组合物
119 光敏性树脂组合物及用该组合物的光敏性干膜抗蚀剂、光敏性射线遮挡膜
120 感光树脂组合物以及利用该组合物制作图案的方法和电子元件
121 单步骤中结合临界尺寸及披覆之测量方法
122 电子束曝光方法及其装置
123 光刻蚀法中使用的含噻吩的光酸生成剂
124 厚抗蚀剂图案的形成方法
125 光掩模用基板、光掩模坯料及光掩模
126 双层光阻的形成方法及其应用
127 基板曝光装置
128 回收平版印刷工具中所用气体的方法和装置
129 基于压印光刻的复合材料真三维微电子机械系统制造方法
130 光致抗蚀剂组合物
131 光致抗蚀剂组合物
132 感光性平版印版
133 一种光刻投影装置及其器件制造方法
134 光刻装置及器件制造方法
135 用于操纵和传送计量光束的器件和方法
136 彩色滤光片用感光性树脂组成物
137 光掩膜及漫反射板
138 防止产生光阻残渣的方法
139 抗蚀剂图案形成方法和抗蚀剂图案形成系统
140 用于进行使用偶极子照明的基于模型的设计转换的方法和装置
141 器件制造方法和计算机程序
142 用于相移掩模的嵌入式蚀刻阻止层
143 光刻设备,器件制造方法和由此制造的器件
144 光刻设备及器件制造方法
145 光刻设备，器件制造方法和由此制造的器件
146 用于提供基于任务的自动化的光刻掩模缺陷适印性分析的系统和方法
147 曝光装置和象差校正方法
148 维护机器部件的方法和装置
149 光刻装置和使用光刻模拟技术优化照明光源的方法
150 包括气体冲洗系统的光刻装置
151 剥离剂、及其剥离方法、剥离剂循环设备及剥离剂控制装置
152 相移掩模及用它的图形的形成方法和电子器件的制造方法
153 平版印刷版载体及其生产方法
154 器件制造方法和相应的平版印刷设备、机器人系统和程序
155 正性光敏组成物
156 可聚合的组合物
157 正型光致抗蚀剂组合物以及抗蚀图案的形成方法
158 曝光机构和曝光方法
159 抗蚀剂剥离剂
160 图像形成材料
161 微结构的制造方法
162 含有含多个酸不稳定部分的侧基团的聚合物的光刻胶组合物
163 用于室温下低压微刻痕和毫微刻痕光刻的模板
164 载台装置及曝光装置
165 制备平板印刷版的方法
166 感光性平版印刷版前体及其处理方法
167 有机抗反射涂层组合物和用该组合物形成光阻图案的方法
168 正型光致抗蚀剂组合物与抗蚀剂图案的形成方法
169 正型感光性涂料组合物、正型感光性树脂的制造方法及图形的形成方法
170 正性光致抗蚀剂组合物及抗蚀图形的形成方法
171 使用图案化发射体的电子光刻设备
172 相移转光罩的结构
173 数码打样中的色彩管理方法
174 平板印刷板原版
175 曝光方法及装置
176 投影曝光装置
177 图形写装置、图形写方法和衬底
178 钟摆式数字曝光法
179 于薄膜晶体管液晶显示器制造过程中的蚀刻方法
180 微刻用光刻胶组合物中的溶解抑制剂
181 光引发反应
182 正感光性聚酰亚胺树脂组合物
183 抗蚀图、其制造方法及其应用
184 利用光阻流修补针孔缺陷
185 含芳香酸抑制剂的光致抗蚀剂剥离剂/清洁剂组合物
186 光刻投影组件、用于处理基底的处理装置和处理基底的方法
187 含环氧化合物的负型光敏树脂组合物
188 光刻处理方法，和由此制造的器件
189 基底载体及其制造基底载体的方法
190 湿蚀刻装置
191 透明着色组合物及滤色器
192 光敏组合物及其使用的新型化合物
193 转移光罩图形的方法与装置以及制造光罩的方法
194 光刻投射装置组件表面的清洗方法、光刻投射装置、器件制造方法和清洗系统
195 利用磁力的可拆卸模版窗口和支撑框架
196 显示装置的沉积掩模及其制造方法
197 曝光装置
198 用于传送物体的传送设备及其使用方法以及包含这种传送设备的光刻投影设 备
199 用于光刻设备的支撑结构
200 光刻标记结构、光刻投射装置和进行基片对准的方法
201 抗蚀膜的形成方法及光掩膜的制造方法
202 消除密集图案与单一图案的关键尺寸偏差的方法
203 灰色调掩模的缺陷校正方法
204 灰色调掩模的缺陷检查方法
205 光罩制程及薄膜晶体管的制造方法
206 正型光敏树脂组合物
