核心提示：1、PH值缓冲的浆液及其在抛光中的应用2、白米抛光剂及其制备方法3、半导体或绝缘材料层的机械-化学新抛光方法4、半导体基板的化学机械抛光方法和化学机械抛光用水分散液5、半导体基片用的抛光剂6、包括二氧...
1、PH值缓冲的浆液及其在抛光中的应用2、白米抛光剂及其制备方法
3、半导体或绝缘材料层的机械-化学新抛光方法
4、半导体基板的化学机械抛光方法和化学机械抛光用水分散液
5、半导体基片用的抛光剂
6、包括二氧化硅涂覆铈土的抛光淤浆
7、包括硅氧化物的微粒收集品和含有硅氧化物微粒分散体的抛光剂
8、不锈钢表面化学抛光液及化学抛光方法
9、不锈钢表面化学抛光用浴液
10、不锈钢表面化学抛光浴液及方法
11、不锈钢电化学研磨(抛光)方法
12、不锈钢零件批量电化学抛光装置
13、不锈钢抛光液
14、不锈钢设备动态电解复合抛光方法
15、车用多功能一体化清洁抛光剂的制备及使用方法
16、电解抛光方法
17、电解抛光组件以及对导电层执行电解抛光的方法
18、反转电流法的铝材电解抛光
19、高效有色金属抛光膏及制备方法
20、固体抛光剂
21、硅藻土磨料抛光剂的制备方法
22、含氢氟酸的铝型材酸性抛光剂
23、含有酸-胺胶乳的水基抛光剂组合物
24、化合物半导体化学抛光腐蚀液
25、化学机械法抛光二氧化硅薄膜用抛光膏
26、化学-机械抛光方法
27、化学-机械抛光方法2
28、化学机械抛光浆料和其使用方法
29、化学机械抛光浆液
30、化学机械抛光用研磨剂
31、化学机械抛光装置和化学机械抛光方法
32、化学机械抛光组合物及其相关方法
33、化学抛光液
34、混合抛光膏剂
35、活性抛光组合物及其制备方法
36、金刚石膜高速精密抛光装置及抛光方法
37、金属表面抛光溶液及抛光工艺
38、金属表面抛光液
39、金属层用的化学机械抛光淤浆
40、金属基板化学-机械抛光方法
41、硫系化合物相变材料化学机械抛光的纳米抛光液及其应用
42、硫系相变材料化学机械抛光的无磨料抛光液及其应用
43、铝电解抛光的方法和其应用
44、铝或铝合金导电材料层的机械化学抛光方法
45、铝及铝合金焊丝的电化学抛光方法
46、铝型材抛光液无能耗简易回收法
47、纳米二氧化硅抛光剂及其制备方法
48、纳米级抛光液及其制备方法
49、抛光方法及研磨液
50、抛光工件的抛光装置及方法
51、抛光剂
52、抛光剂及其制造方法以及抛光方法
53、抛光剂组合物
54、抛光组合物和抛光方法
55、抛光组合物及使用它的抛光方法
56、汽车铝合金轮毂磨光、抛光工艺
57、去污抛光擦
58、容器内表面电解机械复合抛光工艺
59、溶胶型硅片抛光剂
60、软丙烯酸系制品的低温抛光方法
61、石材研磨或抛光用组合物及其制造方法
62、实现单面抛光的双面无蜡抛光方法
63、适用于半导体化学机械抛光的金属氧化物浆料的制备方法
64、铜的化学机械抛光所用的浆料和方法
65、铜化学－机械抛光工艺用抛光液
66、铜基材料表层的机械化学抛光方法
67、铜锌合金表面的电抛光方法
68、无油水基研磨抛光膏
69、稀土抛光粉的生产方法
70、研磨无机氧化物颗粒的浆液以及含铜表面的抛光方法
71、一种不锈钢管内表面电化学抛光装置
72、一种不锈钢化学抛光方法
73、一种不锈钢制品的化学抛光剂及其工艺
74、一种瓷质砖表面抛光处理方法
75、一种防潮白抛光膏
76、一种改善化学机械抛光不均匀度的方法
77、一种化学-机械抛光浆料和方法
78、一种化学机械抛光液
79、一种化学抛光剂及其使用方法
80、一种活性抛光剂及其制备方法
81、一种加氧化剂酸性硅溶胶抛光液的配制方法
82、一种金刚石膜的高效抛光加工方法
83、一种晶状饰品钻孔内的抛光方法
84、一种快速抛光剂
85、一种纳米级蓝宝石衬底的加工方法及其专用抛光液
86、一种墙面抛光防污蜡的制作方法
87、一种石材镜面效果抛光膏的制作方法
88、一种水基纳米金刚石抛光液及其制造方法
89、一种无腐蚀脉冲电化学抛光溶液及工艺
90、一种用于浅沟槽隔离技术的化学机械抛光工艺
91、用于SiO2隔离层化学-机械抛光的酸性抛光膏
92、用于不锈钢表面化学抛光的抛光液和方法
93、用于低介电常数材料的氧化抛光淤浆
94、用于金属布线的化学机械抛光的浆液组合物
95、用于金属的化学机械抛光（CMP）的浆料及其使用
96、用于金属和电介质结构化学机械抛光的抛光膏
97、用于金属和金属氧化物的结构化处理的抛光液和方法
98、用于金属化学机械抛光的新型浆料
99、用于钛的电解抛光的电解液组合物及其使用方法
100、用于铜基材的化学机械抛光浆料
