溅镀工艺技术、真空溅镀生产工艺及设备应用大全
1、溅镀靶及其制造工艺
2、阴极溅镀装置
3、在溅镀蚀刻工艺中监控蚀刻腔体内离子浓度的工艺及装置
4、溅镀—薄膜于—塑料制品上的工艺及其塑料制品
5、具有两个溅镀用阴极的、用于对平的基片进行镀膜的设备
6、清洁短路后的溅镀室高压阴极的工艺和装置
7、真空溅镀装置
8、平面磁控溅镀的工艺和设备
9、低压溅镀的工艺与装置
10、溅镀清洗室的晶座设计及应用该设计的金属化制造过程
11、以气喷粉末制作铝合金溅镀靶材的工艺
12、金属溅镀靶材的制造工艺
13、金属硅化物溅镀靶
14、用于平面溅镀的二维磁电管扫描
15、导电性阻障层、尤其是钌钽合金及其溅镀沉积工艺
16、溅镀靶材的制造工艺
17、溅镀式镀膜装置
18、溅镀装置
19、溅镀式镀膜装置及工艺
20、偏压晶片时的铝溅镀
21、溅镀装置
22、溅镀机的防着板结构
23、溅镀机的冷却装置
24、新型光盘溅镀用外罩
25、贴片电阻侧导真空溅镀治具
26、连续式溅镀机工件输送装置
27、一种用于真空溅镀制程的传动装置
28、溅镀机台的晶片承载装置
29、防变形溅镀治具
30、溅镀机的阀门控制装置
31、溅镀机台及其溅镀载台
32、高PTF溅镀靶和制造工艺
33、用于平面溅镀的二维磁电管扫描
34、用于高功率溅镀的电源联接器
35、用于反射型平面显示器的反射膜及溅镀靶材的合金材料
36、提高溅镀靶使用率的预溅镀工艺
37、磁控式摇摆扫瞄型溅镀机
38、自动检测半导体芯片位置的溅镀系统
39、磁控管溅镀装置和工艺
40、溅镀装置及其使用此装置的金属层/金属化合物层的制造工艺
41、铟锡氧化物的溅镀工艺与形成铟锡氧化物层的工艺
42、一种以真空溅镀法制作多层陶瓷电容器的工艺
43、磁控及非平衡式磁控物理溅镀多层覆合超硬薄膜之工艺
44、盘片溅镀遮罩
45、用于溅镀镀膜的阳极
46、一种磁控及非平衡式磁控物理溅镀ZrCN于微型钻头的工艺
47、磁控溅镀装置
48、溅镀清洗室的晶座设计及应用该设计的金属化制造过程
49、溅镀靶及其制造工艺
50、溅镀靶安装到垫板上的工艺和设计
51、钽基化合物的陶瓷溅镀靶材及其应用工艺和制备工艺
52、清洁溅镀机的工艺
53、溅镀装置
54、溅镀靶材
55、溅镀靶材牌的电子束焊接
56、磁电管及溅镀靶间的间距补偿
57、LCP基材防EMI镀膜的溅镀前处理工艺
58、LCP基材溅镀防EMI镀膜的前处理工艺
59、塑料基材上镀覆高遮蔽防电磁干扰薄膜的溅镀工艺
60、防止被溅镀物品变形的工艺
61、对向靶材式溅镀装置
62、以真空溅镀在塑胶基材上被覆抗EMI薄膜的工艺
63、塑胶件真空溅镀中提高镀层附着性的工艺
64、阳极板及包括所述阳极板的溅镀装置
65、溅射源、溅镀装置、薄膜的制造工艺
66、一种多功能溅镀系统及溅镀工艺
67、抗菌纺织材料的负压溅镀制造工艺及其产品
68、溅镀设备供电系统、电压控制信号形成系统及工艺
69、溅镀靶材的制造工艺
70、轮圈混色溅镀制程
71、溅镀靶材
72、溅镀装置、透明导电膜的制造工艺
73、溅镀装置及溅镀工艺
74、一种真空溅镀防电磁波干扰膜之不良膜面的处理工艺
75、一种溅镀工艺及溅镀设备
76、高真空离子束溅镀靶材利用率增强装置
77、溅镀承载装置
78、一种用于溅镀机台的承载台
79、一种用于溅镀式镀膜机台的承载台
80、应用溅镀工艺在太阳能电池基板上制作薄膜的工艺
81、含贵金属溅镀靶材的制作工艺
82、溅镀用承载装置
83、溅镀式镀膜装置及镀膜工艺
84、溅镀装置及成膜工艺
85、溅镀基材固持装置
86、一种具有多元靶材的溅镀靶
87、一种用于真空溅镀装置的辅助导引系统及装置
88、等离子体溅镀中的刻蚀及侧壁选择性
89、溅镀式镀膜装置及镀膜工艺
90、塑料工件表面真空溅镀EMI薄膜结合电泳涂装技术
91、真空溅镀结合电泳涂装加工微弧氧化工件工艺
92、微弧氧化工件真空溅镀EMI薄膜结合电泳涂装加工工艺
93、塑料工件表面真空溅镀结合电泳涂装技术
94、绝缘导热金属基板上真空溅镀形成导电线路的工艺
95、用于溅镀张力氮化硅膜的系统和工艺
96、溅镀载台
97、具有机械手臂的转盘式连续溅镀机
98、用于真空薄膜制程的转盘式连续溅镀机
99、连续式蒸镀溅镀机
100、双面一次成膜真空离子溅镀机
101、溅镀机阴极靶源结构
102、具有扩散板的旋转式磁控溅镀装置
103、真空离子溅镀靶材
104、真空溅镀中的遮镀辅助设备的结构
105、防止溅镀过程中被溅镀物品变形的防护装置
106、真空溅镀设备的倾斜式基材载送装置
107、真空溅镀设备的进气装置
108、光盘溅镀机的磁场发生装置
109、溅镀机真空腔抽真空装置
110、高真空离子束溅镀靶材利用率增强装置
111、溅镀机真空腔保护装置
112、溅镀机光盘更换装置
113、定点式厚膜真空溅镀设备
114、光盘溅镀机