核心提示：001 在平版印刷中用于减少误差的方法002 光敏平版印版003 正型感光性组成物及用其制成的平版印刷版004 光掩模的制造方法005 光敏平版印刷版006 光刻胶树脂,化学增强光刻胶组合物及图样的形...
001 在平版印刷中用于减少误差的方法002 光敏平版印版
003 正型感光性组成物及用其制成的平版印刷版
004 光掩模的制造方法
005 光敏平版印刷版
006 光刻胶树脂,化学增强光刻胶组合物及图样的形成方法
007 用于阵列式集成电路光刻扫描装置的线阵光源
008 氟化聚合物,光刻胶和用于显微光刻的方法
009 包含用于控制角落变圆的图形的掩模制作方法
010 感光元件、感光元件辊、使用其的抗蚀图形的制法、抗蚀图形、抗蚀图形的积层片...
011 感光性平版印刷版
012 一种用于纵横分辨率不同的打印设备的调频挂网方法
013 一种用于凹印制版印刷的无缝挂网方法
014 平版印刷版用原版
015 光感应性SiO2凝胶薄膜制备及其微细图形制作方法
016 碱显影型光固化性组合物及使用该组合物所得的烧成物图案
017 高温热流光刻制造方法
018 半导体集成电路器件制备方法,其光掩膜和它的制备方法及掩膜胚
019 焊锡抗蚀剂油墨组合物
020 用于制造显示面板的掩模
021 薄膜和薄膜的制造方法以及薄膜用粘合剂
022 修正光学邻近效应的方法
023 化学增强型正光刻胶组合物
024 正型成像材料
025 感光平印版的制造方法
026 利用普通紫外光深刻层光刻的分离曝光工艺方法
027 基板曝光装置
028 以接触孔模型为基础的光学邻近校正法
029 增强凸印版上的图像的方法
030 规格确定方法、投射光学系统制造方法和调节方法、曝光设备及其制造方法以及计...
031 具有干涉仪系统的曝光装置
032 衬底处理装置和处理方法
033 光掩模的修正方法和半导体器件的制造方法
034 预增感平版印刷版
035 曝光方法及曝光装置
036 用于光致抗蚀剂组合物的抗反射涂料
037 平版印刷版用原版
038 投影光学系统以及具备此投影光学系统的曝光装置
039 曝光方法及曝光装置
040 照明光学系统及配备该光学系统的激光器处理装置
041 阵列式集成电路光刻系统中的精密工作台结构
042 阵列式集成电路扫描光刻用的工作台运动控制方法及系统
043 具有膜面保护层的光掩模原版、其制造方法及光掩模原版用的保护层形成液
044 显影液制造装置及显影液制造方法
045 感光热固型组合物
046 负性光敏平版印刷版
047 光掩膜、其制作方法及使用了该掩膜的模样形成方法
048 高性能图形发生器的数据路径
049 光致抗蚀剂脱膜剂组合物
050 负像记录材料与花青染料
051 减弱条纹地在印版上制作图像
052 防止抗蚀剂中图象毁坏的显影剂/漂洗液的组成
053 微缩文字图案模具制作方法
054 具有一个VCSEL光源阵列的用于印版的制图像装置
055 提高光刻分辨率的方法
056 带有次分解校准标记窗口的照相平版印刷掩膜
057 一种在蚀刻过程中非破坏性测量侧向蚀刻宽度的方法
058 投影光学系统,具有该投影光学系统的投影曝光装置以及投影曝光方法
059 形成图形的方法
060 光刻蚀刻制作工艺
061 图案形成体的制造方法以及用于其中的光掩膜
062 精制显影液制造装置及精制显影液制造方法
063 曝光装置
064 具有offner型宏光具的印版制图像装置
065 蚀刻方法以及蚀刻液的定量分析方法
066 以列像机制作列像PS版的印刷版制造方法
067 用母掩模在中间掩模上形成IC芯片的图形用的曝光方法
068 正型光敏树脂组合物和使用它的半导体装置
069 用于照相制板工艺的增加聚焦深度的方法
070 多重曝光方法
071 控制形成金属薄膜电极小剖面斜角的方法及其产品
072 降低光学邻近效应的方法
073 用于夹持印刷电路板进行曝光的夹持件
074 化学放大抗蚀剂聚合物及使用该聚合物的抗蚀剂组合物
075 合成凸印元件
076 在微刻写入中的射束定位
077 照相乳剂面保护层转印膜及具有该保护层的光掩模
078 含有氧和硫脂环族单元的聚合物和包含该聚合物的光刻胶组合物
079 用于光刻胶的抗反射涂料
080 用于ARS系统的器件隔离工艺流程
081 减少光刻工艺中光学近接效应偏差的方法
082 去除抗蚀剂材料的方法
083 用于光致抗蚀剂溶解液的消泡剂组合物
084 采用湿蚀刻的电子部件的制造方法
085 抗反射涂层组合物
086 细微结构体的制造方法、电子装置的制造方法及其制造设备
087 一种三维微结构的制作方法及其曝光装置
088 碱液的制造方法、碱液及其应用、药液涂布装置及其应用
089 用于涂膜层显影的表面活性剂水溶液
090 光刻胶组合物
091 构图铟锡氧化物的蚀刻剂和制造液晶显示装置的方法
092 吸收紫外线的支撑层及包含该支撑层的苯胺印刷元件
093 感光性组合物和负型平版印刷版
094 图案轮廓的即时监测的方法
095 保护膜形成用材料
096 形成光学图象的方法、用于本方法的掩模、用本方法制造器件的方法及实施本方法...
097 有放射线敏感性的折射率变化性组合物及折射率变化法
098 感光性聚硅氮烷组合物、采用该组合物形成图案的方法及烧结其涂层膜的方 法
099 图案、布线、电路板、电子源和图像形成装置的制造方法
100 碱性加工液、加工液的配制方法及其装置以及加工液的供给方法及其装置
101 平版印刷版原版
102 光刻胶用剥离液组合物
103 光刻胶用剥离液和使用该剥离液的光刻胶剥离方法
104 正型感光性聚酰亚胺树脂组合物
105 光学邻近效应修正的方法
106 感光性导电胶、导体图形形成法和陶瓷多层构件制法
107 预测曝光能量的方法
108 光刻胶用剥离液和使用该剥离液的光刻胶剥离方法
109 非水系保护膜剥离液管理装置及非水系保护膜剥离液管理方法
110 一种主动光学接近修正法
111 一种交替式相位移光罩
112 平版印刷版前体
113 使用邻喹啉并二甲烷的平版印刷方法
114 图案形成方法及装置、电敏感元件及滤色器的制造方法
115 自增感型超支化聚酰亚胺光敏材料及其制备方法
116 反射防止膜的光学常数的决定方法和光刻胶图形的形成方法
117 照明装置及应用该照明装置的曝光装置和器件制造方法
118 掩膜图案的校正方法
119 使用空气影像仿真器来评估掩模影像的方法
120 光刻胶组合物
121 化学放大型正性抗蚀剂组合物
122 光刻胶组合物
123 光刻成像滤波装置
124 曝光装置及曝光方法
125 抗蚀剂和蚀刻副产品除去组合物及使用该组合物除去抗蚀剂的方法
126 显影处理方法和显影液涂布装置
127 水系保护膜剥离液管理装置及水系保护膜剥离液管理方法
128 用于深紫外线辐射的光刻胶组合物
129 倒锥形抗蚀图案的形成方法
130 灰调掩模制作方法、灰调掩模和图形转印方法
131 无残留物双层微影方法
132 光罩组合及接触洞的制造方法
133 化学放大型正性光刻胶组合物
134 焦点监测用光掩模、监测方法、监测装置及其制造方法
135 光学记录器及其记录方法
136 设备管理系统和方法、半导体曝光设备及其管理方法、半导体器件的制造方法
137 基板曝光装置及方法
138 用于冲洗光致抗蚀剂的稀释剂和处理光致抗蚀剂层的方法
139 新版光罩的验证方法
140 感光性树脂积层体
141 改善曝光机台的分辨率极限的方法
142 在多层印刷电路板的制造工艺中使用的标记设备
143 包含复层滑动膜的激光成像印刷版
144 交替式相移光罩及其解除光罩以及接触洞的制造方法
145 反射镜面上的倾斜凸块结构及其制造方法
146 曝光系统及其应用于彩色滤光片的曝光方法
147 保护胶片及附设保护胶片的光罩的制造方法
148 曝光方法和曝光装置
149 双灯泡型曝光装置
150 光敏性树脂组合物,利用该光敏性树脂组合物制成的光敏性元件,制作防蚀图形的...
151 减小图案间隙或开口尺寸的方法
152 曝光物体的设备和方法
153 用于使面板表面曝光的装置
154 检查曝光装置、补正焦点位置和制造半导体装置的方法
155 感光性树脂组合物、使用该组合物的感光性元件、保护层图案的制造法及印刷电路...
156 用于从微电路基材除去含钠物质的方法和组合物
157 有机电激发光的图素定义层的显影装置
158 用于物体均匀加热的设备
159 双层光刻过程
160 光学放大率调节系统与投影曝光设备
161 光固化性•热固化性树脂组合物、其感光性干薄膜及使用其的图型形成方法
162 光掩模的制造方法
163 红外感光光敏组合物
164 抗蚀剂图形增厚材料、抗蚀剂图形及其形成方法以及半导体器件及其制造方法
165 抗蚀图增厚材料、抗蚀图及其形成工艺以及半导体器件及其制造工艺
166 形成光阻图案的方法
167 曝光方法
168 叠合标记结构及其测量应用
169 具有提高的剥离强度的自含成像组件
170 尤其可用于立体石印法的液态的辐射固化组合物
171 用于步进机对准的自补偿记号装置
172 光掩模及其制造方法
173 感光性树脂组合物、干式薄膜和使用它的加工部件
174 转移图形的方法
175 感光性树脂层洗净用稀释剂
176 光致抗蚀剂残渣除去液组合物
177 化学增强光刻胶及一种光刻胶合成物
178 化学增幅型正性抗蚀剂组合物
179 光刻胶图案的形成方法和光刻胶层合体
180 曝光方法和曝光装置
181 自对准的混合工艺和元件
182 用微传递技术在聚合物活性表面图案化固定生物大分子的方法
183 光刻胶剥离剂组合物
184 紫外和真空紫外透明的聚合物组合物及其应用
185 使印刷电路板表面曝光的装置
186 基板处理装置
187 基板处理装置
188 微隅角棱镜阵列、制造它的方法以及反射型显示装置
189 相位误差检测图案及其应用
190 光学近接修正的方法
191 基片处理装置、液处理装置和液处理方法
192 感光组合物、固化制品以及利用它的印刷电路板
193 感光树脂凸版印刷板的显影方法和装置
194 光致抗蚀剂显影液
195 通过沉积物与光阻产生交联反应以减少光阻粗糙度的方法
196 蚀刻的方法
197 感光性树脂组合物
198 使用空间光调制器的图形产生系统
199 测量光罩布局修正所引起桥接的方法与装置
200 应用高能光源制造微型构造的方法
201 曝光装置的照度不匀度的测定方法和修正方法
202 正片型感光性抗蚀剂组合物及其用途
203 图案描绘装置及图案描绘体的制造方法
204 抗蚀剂抗反射涂层组合物
205 形成具有抗蚀刻效应的光阻的方法
206 辐射敏感的折射率变化组合物以及变化折射率的方法
