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中国硅片制造方法技术专利

时间:2020/6/16 12:29:10 点击:

  核心提示:1 一种利用<110>硅片制作的微机械光开关(中国-17页)2 利用(110)硅片制作微机械光开关、光开关阵列及方法(中国-8页)3 单晶硅片衬底的磁控溅射铁膜合成二硫化铁的制备方法(中国-5页)4 ...
 1 一种利用<110>硅片制作的微机械光开关(中国-17页) 
 2 利用(110)硅片制作微机械光开关、光开关阵列及方法(中国-8页) 
 3 单晶硅片衬底的磁控溅射铁膜合成二硫化铁的制备方法(中国-5页) 
 4 一种碳化硅片状晶体的制备方法(中国-11页) 
 5 硅片抛光机头吸盘(中国-6页) 
 6 一种利用(100)硅片制作的微机械光开关(中国-8页) 
 7 全自动多功能硅片腐蚀机(中国-5页) 
 8 单晶硅片各向异性腐蚀夹具(中国-6页) 
 9 从超高纯石英材料冶炼并直接铸锭的设备及至切片制取太阳能级硅片的工艺(中国-6页) 
 10 大面积大功率器件硅片与钼散热垫板钎焊料(中国-4页) 
 11 硅片直接键合方法(中国-5页) 
 12 溶胶型硅片抛光剂(中国-6页) 
 13 硅半导体器件用硅片的缺陷控制方法(中国-11页) 
 14 简易高效硅片腐蚀杯(中国-8页) 
 15 新型的硅片腐蚀装置(中国-5页) 
 16 薄硅片扩散硅力敏元件芯片(中国-6页) 
 17 CMOS器件用硅片的缺陷控制工艺(中国-9页) 
 18 硅片无蜡抛光垫(中国-10页) 
 19 硅的多重吸杂技术及多重吸杂硅片(中国-11页

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