化学机械抛光的抛光垫及其制备方法


化学机械抛光的抛光垫及其制备方法
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一种化学机械抛光的抛光垫制备方法，解决了现有抛光垫工艺较复杂，脱易脱层、能耗高、成本高、生产周期长的问题，技术方案包括先制造抛光层，然后在抛光层上浇铸缓冲层，最后经熟化后得到抛光垫，抛光层和缓冲层是通过连续浇铸的方式制造出来，无需粘合剂，而是通过化学键连接在一起。本发明抛光垫的抛光层和缓冲层的结合很牢固，不存在层间粘合剂易受到抛光液的化学侵蚀的问题，具有工艺难度低、生产成本低、使用寿命长的优点。