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一种高冲击韧性立方氮化硼(cBN)，其合成原材料为质量比为1：9～12的Li3N触媒粉末和高纯度六方氮化硼粉末，所述高纯度六方氮化硼粉末中按质量比六方氮化硼(hBN)含量≥98％、B2O3≤0.5％；所述高纯度六方氮化硼粉末的粒度为20～30μm，Li3N触媒粉末的粒度为80～100μm。本发明同时还公开了该产品的合成方法及应用。按照本发明所述工艺方法合成出的高冲击韧性cBN晶体，其粒度为60/70的cBN单晶体的Ti值为61％～64％，70/80的cBN单晶体的冲击韧性(Ti)值为67％～70％，80/100的cBN单晶体的Ti值为75％～78％。且合成出的cBN单晶体晶体透明，晶形较完整，hBN转化率为60～65％，具备较高的工业生产价值。该cBN晶形好、转化率高、使用于粗磨加工时，寿命长。 |
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