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| 于非导电材料形成电磁波干扰遮蔽膜的方法 |
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| 于非导电材料形成电磁波干扰遮蔽膜的方法 |
| 简介： |
本技术涉及在非导电材料的表面上形成一用于遮蔽电磁波干扰的一或多层金属膜的方法，包括对该表面进行粗化处理，接着于粗化处理过的表面物理蒸汽沉积(例如溅镀)一或多层金属膜，而形成电磁波干扰遮蔽膜。本技术方法因为采取该表面粗化处理，使得作为EMI遮蔽膜的金属膜可由物理蒸汽沉积方式在非导电材料的表面上附着的非常好，附着力可达到5B的层级，符合甚至超过市场上对EMI遮蔽膜的要求。 |
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| 全文：详细说明书附图共9页 | | |
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