|
| 在非晶体材料上磁控溅射锗晶体薄膜的方法 |
| 【打印】 【收藏本页】
|
| 在非晶体材料上磁控溅射锗晶体薄膜的方法 |
| 简介： |
本技术提供一种在非晶体材料上磁控溅射锗晶体薄膜的方法，它利用磁控溅射技术，并控制工作气体压强、温度、溅射功率等工艺条件，在非晶体材料上生长锗晶体薄膜，且能快速生长出大面积的锗晶体薄膜，从而开辟了一条在非晶材料上生长锗晶体薄膜的新途径，使用本方法能大大提高生产效率，减少投资，降低生产成本，并能取得较好的经济效益，使锗晶体薄膜形成产业化。因此，实为新一代生产锗晶体薄膜的方法。 |
| |
| 全文：详细说明书附图共7页 | | |
|
当前位置：