| 具有酸反应性基团的新颖含氟聚合物以及使用这些材料的化学增幅型光刻胶组合物 |
| 简介： |
提供一种对真空紫外区(157nm)能量射线(射线)透明性高、具有酸反应性基团的新颖含氟聚合物，以及使用它作光刻胶用的含氟基础聚合物，使用这些材料的化学增幅型光刻胶组合物。由式：-(M1)-(M2)-(A)(式中，M1是具有酸解离性或酸分解性官能团的结构单元，M2是含氟丙烯酸酯结构单元，A是来源于其他能共聚单体的结构单元)表示的，其中含有1～99摩尔％结构单元M1，1～99摩尔％结构单元M2及0～98摩尔％结构单元A，M1/M2为1～99/99～1摩尔％且数均分子量为1,000～1,000,000的含氟聚合物，或者含有该聚合物等带酸反应性基团的含氟聚合物的、适于光刻胶用含氟基础聚合物用材料，使用这些材料的化学增幅型光刻胶组合物。 |
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| 全文：详细说明书附图共274页 | |
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