具备较高饱和度的光学干涉变色颜料的制备方法


具备较高饱和度的光学干涉变色颜料的制备方法
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一种具备较高饱和度的光学干涉变色颜料的制备方法，其特征在于，运用原子层沉积技术在云母，或金属片，或玻璃片状基材上交替沉积高折射率和低折射率的氧化物薄膜，并且在这两层薄膜间沉积若干层折射率渐变的中折射率多层薄膜，精确控制各膜层材料的折射率和厚度，获得具备较高饱和度的光学干涉变色颜料。原子层沉积方法能保证薄片基材表面的固有平滑度，有极好的遮盖能力，充分实现光学干涉色的表达。