当前位置:首页 >> 单项专利 >> 化学化工 >> 正文
无化学镀孔金属化工艺——黑孔化方法
打印】 【收藏本页
无化学镀孔金属化工艺——黑孔化方法
简介: 本技术涉及印制电路板孔金属化工艺,一种无化学镀孔金属化工艺——黑孔化方法。本技术属于印制电路板制造工艺领域。其工艺流程是在印制板电镀前进行黑孔化处理,使其孔壁上涂覆上一层黑孔化膜,然后经干燥、去膜处理,再进行电镀铜工序。本方法与化学镀孔金属化工艺相比具有可靠性高,工艺流程简单,黑孔化液无毒,无味,无腐蚀,减少污染,用水量少,节省铜及贵金属,成本低的效果;本方法安全可靠,便于生产中大量使用;本方法特别适用于小孔、高密度的印制电路板制造工艺。
全文:详细说明书附图共8页