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| 用于超导磁约束聚变装置第一壁表面的离子回旋硼化工艺 |
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| 用于超导磁约束聚变装置第一壁表面的离子回旋硼化工艺 |
| 简介： |
本技术涉及一种用于磁约束聚变装置第一壁的镀膜工艺。由高频发射机作为高频波源；高频波经馈线输送至安装在超导磁约束聚变装置内的回旋天线；超导磁约束聚变装置抽成真空后充入硼化气体；硼化气体被高频电磁波电离、分解产生高能硼原子和硼化合物分子，对超导磁约束聚变装置第一壁进行轰击、沉积、形成硼膜。与常规的直流辉光放电硼化工艺相比，其膜的寿命提高１０倍以上，整个硼化的过程缩短５—８倍，具有较高的经济效益。 |
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| 全文：详细说明书附图共5页 | | |
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